[发明专利]具自对准电极结构的功能性阵列元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810128535.1 申请日: 2008-06-19
公开(公告)号: CN101609835A 公开(公告)日: 2009-12-23
发明(设计)人: 侯智升;侯维新 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 彭久云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具自对准电极结构的功能性阵列元件及其制造方法。上述功能性阵列元件包括透明基板。图案化阵列式下电极设置于该透明基板上。间隙壁结构设置于该透明基板上,且位于该图案化阵列式下电极之间的间隙,且与该图案化阵列式下电极自对准。功能性结构层设置于该间隙壁结构所定义的像素阵列区域中。图案化上电极设置于该功能性结构层上,位于对应该像素阵列区域,以及保护层设置于该图案化上电极上,覆盖该功能性阵列元件。
搜索关键词: 对准 电极 结构 功能 阵列 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种具自对准电极结构的功能性阵列元件,包括:透明基板;图案化阵列式下电极设置于该透明基板上;间隙壁结构设置于该透明基板上,且位于该图案化阵列式下电极之间的间隙,且与该图案化阵列式下电极自对准;功能性结构层设置于该间隙壁结构所定义的像素阵列区域中;图案化上电极设置于这些功能性结构层上,位于对应该像素阵列区域,以及保护层设置于该图案化上电极上,覆盖该功能性阵列元件。
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