[发明专利]用于评估具有重复图案的物体的方法和系统无效
申请号: | 200810130733.1 | 申请日: | 2008-07-14 |
公开(公告)号: | CN101510047A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 史密尔·曼甘;阿米尔·莫什·萨吉夫 | 申请(专利权)人: | 以色列商·应用材料以色列公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02B27/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 以色列*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | 本发明提供一种用于评估具有重复图案的物体的方法和系统。光学单元的照明光学系统适于以少量辐射扫描包括与其背景光学上不同的多个规则重复的结构元素的重复图案,产生包括多个衍射瓣的衍射图案。采集光学系统适于将来自重复图案的附图聚焦到检测器上。所聚焦的辐射包括单一衍射瓣而不包括其它衍射瓣。灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号。光学单元适于在灰场检测器的检测表面保持辐射图案,该辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分,其中所述第一辐射图案成分比第二辐射成分强。 | ||
搜索关键词: | 用于 评估 具有 重复 图案 物体 方法 系统 | ||
【主权项】:
1、一种用于评估具有重复图案的物体的系统,该系统包含光学单元;其中所述光学单元包含照明光学系统、采集光学系统和灰场检测器;其中所述照明光学系统适于以少量辐射扫描所述重复图案,从而产生包含多个衍射瓣的衍射图案;其中所述采集光学系统适于将来自所述重复图案的辐射聚焦到检测器上;其中所聚焦的辐射包含单一衍射瓣而不包含其它衍射瓣;其中所述灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号;其中所述重复图案包含多个规则重复的结构元素,该规则重复的结构元素与其背景在光学上不同;以及其中所述光学单元适于在所述灰场检测器的检测表面保持辐射图案,该辐射图案包含由所述重复图案产生的第一辐射图案成分和由所述缺陷产生的第二辐射图案成分;其中所述第一辐射图案成分比所述第二辐射成分强。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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