[发明专利]形成涂膜的方法无效
| 申请号： | 200810131188.8 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101357360A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 植村纯哉;高桥正志 | 申请（专利权）人： | 日本油漆株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/36 | 分类号： | B05D1/36;B05D7/24;C09D133/14;B32B27/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温宏艳;孙秀武 |
| 地址： | 日本大阪府大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及形成涂膜的方法。一种通过在被涂基底上依次形成底涂膜、含闪亮材料基础涂膜和透明涂膜形成多层涂膜的方法，其中用于形成含闪亮材料基础涂膜的含闪亮材料基础涂布材料包含含有贵金属和/或金属的胶体颗粒、涂膜形成树脂和脲化合物和/或聚硅氧烷。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过在被涂基底上依次形成底涂膜、含闪亮材料基础涂膜和透明涂膜而形成多层涂膜的方法，其中，用于形成含闪亮材料基础涂膜的含闪亮材料基础涂布材料包含含有贵金属和/或金属的胶体颗粒、涂膜形成树脂和脲化合物和/或聚硅氧烷。
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