[发明专利]稳定硅氧烷材料的方法、稳定的硅氧烷材料和掺入该材料的器件无效
申请号: | 200810134057.5 | 申请日: | 2008-07-24 |
公开(公告)号: | CN101353429A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | S·刘;A·巴纳杰;C·杨;S·古哈;C·胡 | 申请(专利权)人: | 联合太阳能奥佛公司 |
主分类号: | C08J3/00 | 分类号: | C08J3/00;C08J3/28;C08L83/04;C09D183/04;H01L31/0216 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 赵蓉民;路小龙 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明稳定硅氧烷材料的方法、稳定的硅氧烷材料和掺入该材料的器件。含硅氧烷材料由于暴露于紫外线辐射而导致变暗,通过将这些材料暴露于含有活性种的气氛中可阻止或逆转该变暗,所述活性种可以包括活性氧。所述活性氧可以通过在含氧气氛中紫外线辐射所述硅氧烷材料产生。在其它情况中,活性氧可以包括臭氧或一些其它的活性种。在另外其它情况中,活性种可以包括含氧物质如氧化亚氮或硝酸盐。它也可以包括其它物质如卤素、原子氢、质子或类似物。处理可以在紫外线暴露前应用,以阻止或最小化变暗,或它可以在变暗已经发生后被应用,目的是逆转变暗。也公开了已被处理以使其抵抗紫外线诱导的变暗的硅氧烷材料,以及公开了含有此类被涂敷到其上的硅氧烷材料的光伏器件。 | ||
搜索关键词: | 稳定 硅氧烷 材料 方法 掺入 器件 | ||
【主权项】:
1.最小化或逆转由于暴露于紫外线辐射导致的在含硅氧烷材料中可见光吸收种类形成的方法,所述方法包括步骤:将所述含硅氧烷材料暴露于活性种。
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