[发明专利]喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置有效
| 申请号： | 200810134559.8 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101353774A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 金井晃一;盐谷英尔;关川岳;西村公男 | 申请（专利权）人： | 日产自动车株式会社 |
| 主分类号： | C23C4/00 | 分类号： | C23C4/00;C23C4/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供喷镀膜形成方法以及喷镀膜形成装置。即使在喷镀膜层中混入异物时，也能够除去该异物来降低次品率，使生产率上升。其中，暂时停止在缸孔(3)的内表面(3a)上形成喷镀膜(5)的动作，在该停止状态下，利用目视观察检测出在喷镀膜(5)中产生的异物即突起物(49)并通过手工作业将其除去，之后进行喷镀作业直到喷镀膜(5)成为规定膜厚。形成喷镀膜后，通过珩磨加工进行精加工。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 形成 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷镀膜形成方法，用于在工件的表面形成喷镀膜，其特征在于，朝向上述工件的表面喷射熔融材料，在上述表面形成上述熔融材料固化而成的喷镀膜时，在对上述喷镀膜的表面进行精加工之前，除去混入到上述喷镀膜中的异物。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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