[发明专利]对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法无效
| 申请号： | 200810136697.X | 申请日： | 2008-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN101458458A | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | E·C·摩斯;A·J·登勃夫;M·范德查尔;S·C·J·A·凯吉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G02F1/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及对准方法和装置、光刻装置、计量装置和器件的制造方法。一种包括空间相干的辐射源的对准传感器，该辐射源可以为角度分解的散射仪提供辐射束。通过检测在相对于散射仪的衬底扫描过程中的散射仪波谱的差拍来执行对准操作。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 方法 装置 光刻 计量 器件 制造 | ||
【主权项】：
1、一种对准装置，配置为检测衬底上的对准标记，该装置包括：配置为发射辐射束的空间相干的辐射源；物镜，其配置为把该辐射束引导到衬底上的该标记上并且收集被该标记衍射的辐射；传感器，其配置为检测在物镜的光瞳平面中的角度分解光谱；以及控制电路，其设置成检测所检测的角度分解光谱的空间或时间或两者的变化，并且从中获得指示对准标记相对于物镜的位置的信息。
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