[发明专利]低温烧结硼化物基陶瓷材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810137597.9 申请日: 2008-11-21
公开(公告)号: CN101417880A 公开(公告)日: 2009-04-29
发明(设计)人: 张幸红;韩杰才;孟松鹤;徐林;韩文波;胡平 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 代理人: 韩末洙
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 低温烧结硼化物基陶瓷材料及其制备方法,它涉及一种硼化物基陶瓷材料及其制备方法。本发明解决了现有技术中硼化物基陶瓷材料烧结温度及压力过高、烧结致密度低的问题。本发明硼化物基陶瓷材料由硼化物粉末、碳化硅粉末和添加剂制成;添加剂为氧化铝与氧化钇混合粉末。本发明的方法如下:一、将硼化物粉末、碳化硅粉末和添加剂混合;二、再放入无水乙醇中进行超声波清洗分散,球磨混合,烘干;三、热压烧结后冷却即可。本发明在1800~1850℃、30MPa下烧结所获得低温烧结硼化物基陶瓷材料的组织均匀、致密,且晶粒度细小,同时力学性能优良,相对密度为96%以上,强度和韧性分别高达786MPa和7.12MPam1/2。本发明方法的工艺简单实用,成本低廉、易于推广。
搜索关键词: 低温 烧结 硼化物基 陶瓷材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、低温烧结硼化物基陶瓷材料,其特征在于硼化物基陶瓷材料按体积百分比由60%~94%的硼化物粉末、5%~30%的碳化硅粉末和1%~10%的添加剂制成,其中添加剂为氧化铝与氧化钇混合粉末,氧化铝粉末和氧化钇粉末的摩尔比为5∶3。
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