[发明专利]一种高真空蒸镀介质薄膜转移材料的制备工艺方法有效

专利信息
申请号: 200810138505.9 申请日: 2008-07-17
公开(公告)号: CN101323952A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 赵光剑 申请(专利权)人: 赵光剑
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;B05C1/08;B05C11/02;B05D3/02;C23C14/24;G03F7/16;G03F7/027
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 代理人: 李江
地址: 262500山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种高真空蒸镀介质薄膜转移材料的制备工艺方法,其包括以下步骤:A.采用一塑料薄膜基材层,在该基材层上面涂布一透明脱模涂料层;B.在离型层上涂布全息激光镭射模压涂料层即成像层;C.成像层上进行模压形成全息激光镭射防伪模压层;D.在模压层上高真空蒸镀形成一镀介质层;E.在蒸镀介质层上涂布胶粘剂层,在胶粘剂层上贴合纸或塑膜形成片材层;F.将薄膜从离型层处剥离,得出转移镭射镀介质纸或塑膜,本发明高真空蒸镀介质薄膜转移材料,既具有防伪功能,又具有阻氧性,而且在后序加工中涂布功能涂料还具有理想的阻气隔湿耐磨等特有性能,是一种理想的防伪材料。
搜索关键词: 一种 真空 介质 薄膜 转移 材料 制备 工艺 方法
【主权项】:
1、一种高真空蒸镀介质薄膜转移材料的制备工艺方法,其特征是:包括以下步骤:A、采用一塑料薄膜基材层,在该塑料薄膜基材层上面涂覆一透明脱模涂料层即离型层;B、在离型层上涂布全息激光镭射模压涂料层即成像层;C、成像层上进行模压形成全息激光镭射防伪模压层;D、在全息激光镭射防伪模压层上高真空蒸镀形成一镀介质层;E、在镀介质层上涂布胶粘剂层,在胶粘剂层上贴合纸或塑膜形成片材层;F、剥离所述的薄膜基材层,即得高真空蒸镀介质薄膜转移材料。
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