[发明专利]一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极

摘要

一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极，它属于一种平面磁控溅射阴极。它主要是解决现有平面阴极的靶材利用率相对较低等技术问题。其技术方案要点是：它由包括阴极体外壳(5)、磁靴(6)、磁铁(3)、冷却通道(2)和靶材(1)构成，并在靶材(1)和冷却通道(2)之间设置有调整磁场的金属薄片(7)，所述金属薄片(7)为导磁金属材质。所述金属薄片(7)与靶材(1)的底部固联。在靶材(1)的底部设置一凹槽，金属薄片(7)嵌装在靶材(1)的底部设置的凹槽内。它可使靶材表面的水平方向的磁场在更大范围内达到均匀，从而提高靶材利用率，它可使靶材利用率由通常的20％-28％，提高到35％-38％。它可广泛应用于磁控溅射镀膜技术领域。

主权项

1、一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极，它由包括阴极体外壳(5)、磁靴(6)、磁铁(3)、冷却通道(2)和靶材(1)构成，其特征是：在靶材(1)和冷却通道(2)之间设置有调整磁场的金属薄片(7)，所述金属薄片(7)为导磁金属材质。