[发明专利]等离子体处理装置、天线和等离子体处理装置的使用方法无效
申请号: | 200810144698.9 | 申请日: | 2008-06-11 |
公开(公告)号: | CN101370350A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 平山昌树;大见忠弘 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01J37/32;H01L21/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘春成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供等离子体处理装置、天线和等离子体处理装置的使用方法。等离子体处理装置(10)包括:处理容器(100);输出微波的微波源(900);传送微波的同轴管的内部导体(315a);具有贯通孔(305a),使内部导体(315a)传送的微波透过并放出至处理容器(100)的内部的电介质板(305);和通过贯通孔(305a)与内部导体(315a)连接,在至少一部分与电介质板(305)的基板侧的面邻接的状态下,从电介质板(305)的基板侧的面露出的金属电极(310)。金属电极(310)的露出面中的一个面被电介质盖(320)覆盖。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 天线 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,其通过电磁波激励气体并对被处理体进行等离子体处理,其特征在于,包括:处理容器;输出电磁波的电磁波源;传送从所述电磁波源输出的电磁波的导体棒;形成有贯通孔,使所述导体棒传送的电磁波透过并放出至所述处理容器的内部的电介质板;和通过在所述电介质板中形成的贯通孔与所述导体棒连接,在至少一部分与所述电介质板的被处理体侧的面邻接的状态下,从所述电介质板的被处理体侧的面露出的金属电极,所述金属电极的露出面中的一个面被电介质盖覆盖。
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