[发明专利]检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种检验方法和设备、一种光刻设备、一种光刻单元以及一种器件制造方法。在用于确定光刻工艺中目标图案的结构参数的方法中，计算来自参考图案的一系列校准光谱。对每一个计算得到的光谱进行光谱分析，得出光谱分量和相关的权重，将它们存储在库中或者用作迭代搜索方法的基础。测量来自目标图案的光谱并且对测量的光谱进行分析。将得出的主分量的权重系数与测量的光谱的权重系数进行比较以确定所述结构参数。

主权项

1. 一种用于确定在光刻工艺中目标图案的结构参数的方法，所述光刻工艺用于在衬底上制造器件层，所述方法包括步骤：计算来自参考图案的一系列校准光谱，每一个光谱采用参考图案的结构参数的不同的已知的值进行计算；针对选定数目的光谱点，对每一个计算得到的校准光谱进行光谱分析，以获得一组共有的光谱分量以及多个第一组权重因子，每一个第一组权重因子表示一种计算的光谱；测量通过将辐射束引导至目标图案上而产生的目标光谱；采用从计算的校准光谱的光谱分析获得的一组共有的光谱分量对测量的目标光谱进行光谱分析，以获得表示测量的目标光谱的第二组权重因子；比较第一组权重因子的表示和第二组权重因子的表示；以及采用所述比较以得出目标图案的结构参数值。