[发明专利]用于等离子处理装置的交替气体输送和排空系统

摘要

本发明涉及用于等离子处理装置的交替气体输送和排空系统。提供一种用于供应气体混合物至等离子处理室的气体分配系统。第一阀门装置被连接至第一气体通道和第二气体通道的上游端。第二阀门装置被连接至该第一气体通道和该第二气体通道的下游端。第一气体分配出口管道连接在气体供应源和该第一阀门装置之间，以及第一室入口管道连接在该第二阀门装置和该等离子处理室之间。第一排空管道在该第一阀门装置和该第二阀门装置之间的位置与该第一气体通道连接。第二排空管道在该第一阀门装置和该第二阀门装置之间的位置与该第二气体通道连接。该第一排空管道和第二排空管道与真空管道流体连通。控制器室可操作的以驱动该第一阀门装置和第二阀门装置，以使该气体混合物选择性地沿该第一气体通道从该气体供应源流至该等离子处理室，同时该第二气体由该真空管道选择性排空；或者使该气体混合物选择性地沿该第二气体通道从该气体供应源流至该等离子处理室，同时该第一气体通道由该真空管道选择性地排空。

主权项

1.一种用于供应气体混合物至等离子处理室的气体分配系统，包含:连接至第一气体管道和第二气体管道的上游端的第一阀门装置；连接至该第一气体管道和该第二气体管道的下游端的第二阀门装置；连接在气体供应源和该第一阀门装置之间的第一气体分配出口管道和连接在该第二阀门装置和该等离子处理室之间的第一室入口管道；在该第一阀门装置和该第二阀门装置之间的位置与该第一气体管道连接的第一排空管道，该第一排空管道与真空管道流体连通；在该第一阀门装置和该第二阀门装置之间的位置与该第二气体管道连接的第二排空管道，该第二排空管道与该真空管道流体连通；和控制器，可操作以驱动该第一阀门装置和第二阀门装置以使该气体混合物选择性地沿该第一气体管道从该气体供应源流至该等离子处理室，同时该第二气体由该真空管道选择性地排空；或者使该气体混合物选择性地沿该第二气体管道从该气体供应源流向该等离子处理室，同时该第一气体管道由该真空管道选择性地排空。