[发明专利]电阻的结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810146922.8 申请日: 2008-08-26
公开(公告)号: CN101661822A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 邱志明 申请(专利权)人: 伟敬精密股份有限公司
主分类号: H01C17/00 分类号: H01C17/00;H01C17/07;H01C17/28
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿 宁;张华辉
地址: 中国台湾台北市松山*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种电阻的结构及其制造方法,其制造方法为先提供一第一金属基板,之后依据一图样而蚀刻第一金属基板,而形成一电阻区段,接着形成一绝缘层于第一金属基板的电阻区段后,形成一电镀层于绝缘层的二侧,再依据电镀层分割第一金属基板而产生一电阻。如此,依据该图样蚀刻第一金属基板而不需进行电阻的量测,进而增加制造流程的速度。
搜索关键词: 电阻 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种电阻的制造方法,其特征在于,其步骤包含:提供一第一金属基板;依据一图样,蚀刻该第一金属基板,以产生复数电阻区段;形成一绝缘层于该第一金属基板的该些电阻区段;形成一电极层于该绝缘层的二侧;以及依据该电极层与该些电阻区段分割该第一金属基板,产生一电阻。
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