[发明专利]感应耦合等离子体处理设备

摘要

根据本发明的感应耦合等离子体处理设备防止通过溅射蚀刻作业形成的碎屑在电介质壁容器(11)的侧壁部(14)的内表面上形成膜，并且防止高频电力的供给受到妨碍。在所述感应耦合等离子体处理设备中，从被处理物(2)的最外周上的任一点开始并且经过等离子体导入口(12)的所有直线都在电介质壁容器(11)的底部(13)的内表面上与底部(13)形成交点。

主权项

1. 一种感应耦合等离子体处理设备，其包括：真空容器，其形成用于在减压下容纳被处理物的处理室；电介质壁容器，其形成等离子体室，所述等离子体室通过设置在与所述处理室中的所述被处理物相对的位置处的等离子体导入口与所述处理室连通，并且所述电介质壁容器设置有与所述等离子体导入口相对的底部以及覆盖所述底部与所述等离子体导入口之间的周部的侧壁部；线圈电极，其被布置在所述电介质壁容器的所述侧壁部的外侧；以及用于等离子体的高频电源，其通过向所述线圈电极施加高频电力而在所述等离子体室中形成等离子体，其中，从已安置在所述处理室中的所述被处理物的最外周上的任一点开始并且经过所述等离子体导入口的所有直线都在所述电介质壁容器的所述底部的内表面上与所述底部形成交点。