[发明专利]集成电路结构有效

专利信息
申请号: 200810149552.3 申请日: 2008-09-10
公开(公告)号: CN101567371A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 刘克群;黄冠杰;林志旻;傅文键;刘醇明 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/144
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿 宁;张华辉
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种集成电路结构,包括:一基底;一金属化层,位于该基底之上,且该金属化层包括一介电层,以及位于该介电层之中的一金属线;以及一感应元件,位于该金属化层之上。该集成电路结构,包括:一半导体基底;多个金属化层,位于该半导体基底之上,且每一该些该金属化层包括一低介电系数介电层,以及位于该低介电系数介电层之中的复数条金属线;一第一钝化层,位于该些金属化层之上;以及一感应元件,位于该第一钝化层之中。藉由集成电路结构来增加感应元件的信号强度,减少串音(Cross-Talk)现象的发生,以降低制造成本。
搜索关键词: 集成电路 结构
【主权项】:
1.一种集成电路结构,其特征在于其包括:一基底;一金属化层,位于该基底之上,且该金属化层包括一介电层,以及位于该介电层之中的一金属线;以及一感应元件,位于该金属化层之上。
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