[发明专利]激光处理装置有效
| 申请号： | 200810149841.3 | 申请日： | 2005-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101396765A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 江田幸夫;安达贞志;栗田典夫;筬岛哲也 | 申请（专利权）人： | 奥林巴斯株式会社;濱松赫德尼古斯股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;B23K26/06;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李 辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供激光处理装置。激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 处理 装置 | ||
【主权项】：
1、一种激光处理装置，其包括：激光束源，其发射激光束；会聚光学系统，其将所述激光束会聚在介质中；以及激光会聚光学系统，其中，根据希望将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和从所述介质的表面到希望将所述激光束会聚到的位置的距离，将满足以下公式的多个透镜专门地插入到所述会聚光学系统的发散光线和/或会聚光线的光路上或从该光路移开：2(d2+l×f-l×d)NA＝f×a，其中，d是从会聚光学系统的入射光瞳位置到所述多个透镜的距离，l是从所述会聚光学系统的所述入射光瞳位置到所述束源位置的距离，f是所述多个透镜的焦距，NA是所述束源的数值孔径，即，从会聚透镜看到的数值孔径，并且a是所述会聚光学系统的入射光瞳直径。
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