[发明专利]电解电容的制造方法以及电解电容有效

专利信息
申请号: 200810149971.7 申请日: 2008-10-24
公开(公告)号: CN101425375A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 鹿熊健二;细木雅和;竹谷丰;山下纯一;奥田裕之;石原宏三 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;太阳电子工业株式会社
主分类号: H01G9/00 分类号: H01G9/00;H01G9/04;H01G9/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种即使在施加过电压时也不容易发生短路、具有高安全性的电解电容。本发明涉及一种电解电容的制造方法,包括制作具有阳极箔和阴极箔的电极箔的电容元件;通过在所述电容元件上浸渍将导电性固体的微粒或其凝集体分散在分散溶剂中的分散液,在所述电容元件内形成具有导电性固体的微粒或其凝集体的导电性固体层;使不含有支持盐的溶剂浸渍形成了所述导电性固体层的电容元件。
搜索关键词: 电解电容 制造 方法 以及
【主权项】:
1. 一种电解电容的制造方法,其特征在于,制作具有阳极箔和阴极箔的电容元件,通过在所述电容元件上浸渍将导电性固体的微粒或其凝集体分散在分散溶剂中的分散液,在所述电容元件内形成具有导电性固体的微粒或其凝集体的导电性固体层,使不含有支持盐的溶剂浸渍形成有所述导电性固体层的电容元件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三洋电机株式会社;太阳电子工业株式会社,未经三洋电机株式会社;太阳电子工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810149971.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top