[发明专利]一种用于铜箔后处理的电解槽有效

专利信息
申请号: 200810150446.7 申请日: 2008-07-25
公开(公告)号: CN101634045A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 任小峰;尚宁;陈娓娜;任发民;杜红旗 申请(专利权)人: 西安航天动力机械厂
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25F7/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 代理人: 慕安荣
地址: 710025陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明是一种用于铜箔后处理的电解槽,包括具有夹持架的阳极板装置(1)和槽体(2);阳极板装置(1)的上安装托板和下安装托板分别安装在槽体(2)的上托板(6)和下托板(12)上,侧边挡液板外侧表面和槽体(2)两相对端板的内表面配合;底部挡液板和挡液板(5)配合;槽体(2)的两相对端板上分别通过法兰(21)安装有旋转密封单元(3),底板中部通有排污管(10),排污管(10)的两侧各通有一进液管(7),导电铜排卡在固定于压圈(23)上的卡座(14)中;在槽体(2)两块侧板的外壁有溢流槽,槽底通有溢流管(11)。本发明安装调整方便,能实现槽体和阳极板装置的通用互换功能,解决了轴承和带轮防腐及动力传递的问题。
搜索关键词: 一种 用于 铜箔 处理 电解槽
【主权项】:
1.一种用于铜箔后处理的电解槽,包括槽体(2)和具有夹持架的阳极板装置(1),并且具有夹持架的阳极板装置(1)置于槽体内,其特征在于:a.在槽体(2)内腔顶部有上托板(6)的安装槽(8),分流管(22)通过其长管的两端固定在位于槽体(2)的底部的分流管安装架(24)上,并且该分流管(22)一端与进液管(7)连通;挡液板(5)固定在支撑板(15)上;槽体(2)的底板上装有排污管(10);b.在槽体(2)两块侧板的外壁有溢流槽,并且该溢流槽与溢流管(11)连通;槽顶安装有压圈(23);在两块端板的中下部各安装一旋转密封单元(3);c.阳极板装置(1)的上安装托板和下安装托板分别叠放在槽体的上托板(6)和下托板(12)上;导电铜排安装在固定于压圈(23)上的卡座(14)中。
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