[发明专利]一种减阻表面的制造方法

摘要

本发明公开了一种减阻表面的制造方法。该减阻表面基于表面形貌结构的形状、尺寸以及排布方式等对动态接触角的影响，设计和排布出使动态接触角较小的微结构拓扑，在基片表面上制作出交错排列的微米级结构阵列。本发明制作减阻表面的方法是以紫外压印光刻技术为转移手段，模板可重复使用；以氟化工艺为表面处理手段，使微结构表面的表面能极低，减小粘附力。用于微机电系统器件表面，能减小微尺度下的表面摩擦、磨损及粘附失效；用于运输管道和微流器件表面，能降低流体在微通道中的沿程压力损失，减小流体的流动阻力，增大流速；用于航空、航天、航海、交通运输等领域中，能减小能耗，节省能源。

主权项

1.一种减阻表面的制造方法，在基片表面上制造出交错排列的微米阵列，包括下列步骤：1)制备压印模版，在模版上得到预先设计的微结构图案；2)在基片表面上均匀涂铺一层液态高分子聚合物阻蚀胶，待其自由流平；3)模版压入阻蚀胶层，通过曝光使阻蚀胶发生化学反应硬化成型；4)释放压力并将模版脱离基片；5)对基片进行反应离子刻蚀并除去残留的阻蚀胶，即可得到与模版等比例的图案；6)对带有微结构图形的基片表面进行氟化处理，即得到减阻表面。