[发明专利]一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机无效
| 申请号： | 200810150923.X | 申请日： | 2008-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101359061A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 杭凌侠;弥谦;刘卫国;徐均琪;梁海峰;潘永强;惠迎雪 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/35 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学制造和光电元器件生产设备技术领域，具体涉及一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机。本发明要解决现有技术存在的无法满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备的需求，且设备投入成本高的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是，一种光学镀膜方法，是将真空阴极电弧镀膜技术、磁控溅射镀膜技术和热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用，使用中被镀件始终保持在真空状态下，实时进行蒸发源的快速转换。同时提供一种光学镀膜机，包括真空镀膜室，温度控制系统，膜厚控制系统，气体流量提供、控制系统和薄膜蒸发系统，所述薄膜蒸发系统包括阴极真空电弧发生装置、磁控溅射装置和热蒸发装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 方法 以及 使用 | ||
【主权项】：
1、一种光学镀膜方法，是将真空阴极电弧镀膜技术、磁控溅射镀膜技术和热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用，使用中被镀件始终保持在真空状态下，实时进行蒸发源的快速转换。
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