[发明专利]四氧化三钴纳米管及多孔纳米晶的溶剂热合成方法无效

专利信息
申请号: 200810151270.7 申请日: 2008-09-09
公开(公告)号: CN101348283A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 宋立民;张淑娟;陈斌 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: C01G51/04 分类号: C01G51/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300160天津市河东区*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明是涉及一种溶剂热制备四氧化三钴纳米管及多孔纳米晶的方法,属于无机纳米材料制备工艺技术领域。该发明是以环己烷为溶剂,将二价钴盐溶于环己烷,加入氨水作为络合剂和沉淀剂,控制钴离子浓度为0.01-1mol/L,氨水与环己烷的体积比为1∶3,得到前体溶液。然后将此前体装于密闭的衬有聚四氟乙烯的反应釜中,在220-260℃温度下晶化24-72小时,得到四氧化三钴纳米管或多孔纳米晶。该方法合成的四氧化三钴尺度分布均一,大小可控,成本低,设备简单,操作安全、容易,工艺重复性好,产品质量稳定,适合工业放大生产。
搜索关键词: 氧化 纳米 多孔 溶剂 合成 方法
【主权项】:
1.一种四氧化三钴纳米管及多孔纳米晶溶剂热合成方法,其特征在于包括如下步骤:a.反应前体溶液制备:将二价钴盐溶于环己烷,控制钴离子浓度为0.01-1mol/L,加入氨水作为络合剂和沉淀剂,氨水与环己烷的体积比为1∶3,得到前体溶液;b.溶剂热合成四氧化三钴纳米管及多孔纳米晶:将上述前体装于密闭的衬有聚四氟乙烯的反应釜中加热晶化,待晶化完毕后反应釜温度降至室温,将产物水洗至中性,然后在120℃真空干燥3小时得到四氧化三钴纳米管或多孔纳米晶。其中,晶化温度为220-260℃,晶化时间为24-72小时。
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