[发明专利]高电化学容量氧化石墨烯及其低温制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 200810151807.X 申请日: 2008-09-26
公开(公告)号: CN101367516A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 杨全红;吕伟;孙辉 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 代理人: 赵敬
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种高电化学容量氧化石墨烯及其低温制备方法和应用。所述的氧化石墨烯,该氧化石墨烯片层厚度为0.35~20nm,比表面积为200~800m2/g,电化学比容量达到50~220F/g。其制备方法将氧化石墨在高真空下以一定升温速率升温至150~600℃,维持恒温0.5~20h,得到氧化石墨烯。该材料用于超级电容器电极材料。本发明具有如下优点:制备过程简单,制备温度低,且易于操作,能量消耗低。
搜索关键词: 电化学 容量 氧化 石墨 及其 低温 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高电化学容量氧化石墨烯,其特征在于,该氧化石墨烯片层厚度为0.35~20nm,比表面积为200~800m2/g,电化学比容量达到50~220F/g。
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