[发明专利]一种富集痕量恩诺沙星的分子印迹聚合物的制备方法无效
申请号: | 200810153757.9 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN101747506A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 王硕;潘明飞;王俊平;方国臻 | 申请(专利权)人: | 天津科技大学 |
主分类号: | C08G77/26 | 分类号: | C08G77/26;C08J9/26;C08L83/08;B01J20/26;B01J20/30;C07D215/56 |
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地址: | 300457 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种富集痕量恩诺沙星的分子印迹聚合物的制备方法,其主要的技术要点是以恩诺沙星为模板分子,3-氨基丙基三乙氧基硅烷为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,活化硅球为载体,N,N-二甲基甲酰胺为致孔剂,利用表面分子印迹技术和溶胶凝胶技术合成对恩诺沙星具有高选择性的吸附功能材料。本发明成本低廉,合成过程简单,反应条件容易控制,所制成的恩诺沙星分子印迹聚合物可用于固相萃取富集与高效液相色谱联用,适用于对动物源性食品中痕量恩诺沙星的在线检测和各种样品的净化处理。 | ||
搜索关键词: | 一种 富集 痕量 恩诺沙星 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种富集痕量恩诺沙星的分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于:1)在N,N-二甲基甲酰胺溶剂中加入恩诺沙星,3-氨基丙基三乙氧基硅烷和甲烷磺酸活化硅球,水浴46℃搅拌反应30min,再加入四乙氧基硅烷和氨水,在46℃下孵育14h;2)将上述的聚合产物经过纯甲醇淋洗过滤后在100~110℃温度条件下,老化10~12h,然后加入1mol/L盐酸和二氯甲烷,搅拌3~4h后抽滤,用1mol/L碱和二次去离子水洗至中性;3)将制得的块状聚合物用纯甲醇与冰乙酸的抽提液在索氏提取器中抽提12~18h,然后在60~80℃温度条件下真空干燥10~12h,即得到恩诺沙星高选择吸附功能材料。
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