[发明专利]光掩模坯料、抗蚀图案成形方法以及光掩模制备方法有效
| 申请号： | 200810154778.2 | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101477307A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 小板桥龙二;渡边聪;武田隆信;增永惠一;渡边保 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 光掩模坯料具有抗蚀膜，该抗蚀膜包含(A)基础树脂，(B)产酸剂，和(C)碱性化合物。该抗蚀膜进一步包含(D)聚合物，该聚合物包含具有侧链的重复单元，该侧链带有氟化烃基，该氟化烃基包含与羟基键合的碳原子和与该碳原子键合的邻近碳原子，该邻近碳原子总计至少有两个与其键合的氟原子。聚合物(D)的加入确保整个抗蚀膜的均匀显影，能形成具有高CD均匀性的抗蚀图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 坯料 图案 成形 方法 以及 制备 | ||
【主权项】：
1. 光掩模坯料，包含沉淀于其上的抗蚀膜，所述抗蚀膜包含(A)基础树脂，该基础树脂不溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变成可溶于含水碱性显影剂，(B)酸引发剂，(C)碱性化合物，和(D)聚合物，该聚合物包含具有侧链的第一重复单元，该侧链具有带有羟基的第一氟化烃基，该第一氟化烃基包含与羟基键合的碳原子和与该碳原子键合的邻近碳原子，该邻近碳原子总计至少有两个与其键合的氟原子。
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