[发明专利]具有气体缓冲均匀功能的离子源有效

专利信息
申请号: 200810155402.3 申请日: 2008-09-28
公开(公告)号: CN101685753A 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 谢立 申请(专利权)人: 和舰科技(苏州)有限公司
主分类号: H01J37/08 分类号: H01J37/08
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 215021江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种具有气体缓冲均匀功能的离子源,包括气源、电弧室、用于连接所述的气源及电弧室的导管,所述的电弧室包括设置有灯丝的电弧腔,所述的电弧室的气体入口处设置有气体容腔,所述的气体容腔的进气口与所述的导管连通、所述的气体容腔的出气口与所述的电弧室连通。采用上述结构的离子源,气体能够持续、均匀、稳定的流入电弧室的气体容腔,能够获得持续稳定的电离效果。
搜索关键词: 具有 气体 缓冲 均匀 功能 离子源
【主权项】:
1、一种具有气体缓冲均匀功能的离子源,包括气源、电弧室(1)、用于连接所述的气源及电弧室的导管(2),所述的电弧室(1)包括设置有灯丝的电弧腔(12),其特征在于:所述的电弧室的气体入口处设置有气体容腔(11),所述的气体容腔(11)的进气口与所述的导管(2)连通、所述的气体容腔(11)的出气口与所述的电弧室(1)连通。
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