[发明专利]一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法有效
| 申请号： | 200810155640.4 | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101382612A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 李朝明;吴建宏;陈新荣 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00;G03H1/04;G02B27/60 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 参考 光栅 曝光 大面积 全息 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在涂有感光材料的主全息干板上制备衍射光栅，其特征在于，制备过程包括下列步骤：(1)将一涂有感光材料的参考全息干板固定在主全息干板待拼接的两个部分之间；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场对参考全息干板进行曝光，显影获得衍射光栅条纹，制成参考光栅；(3)将主全息干板的第一部分和参考光栅放置于记录光场中，使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)取消主全息干板第一部分的遮挡，对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，使参考光栅和主全息干板的第二部分位于记录光场区内，观察参考光栅与记录光场形成的莫尔条纹，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)取消主全息干板第二部分的遮挡，对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。
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