[发明专利]p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料及其制备方法无效
申请号: | 200810156784.1 | 申请日: | 2008-10-17 |
公开(公告)号: | CN101488387A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 李达;方晓东;邓赞红;董伟伟;陶汝华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 |
主分类号: | H01F1/40 | 分类号: | H01F1/40;H01F41/00;C04B35/12;C04B35/45;C04B35/622 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230031安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料及其制备方法。制备了CuCrO2基稀磁半导体多晶块体,其具有分子结构式CuCr1-xTMxO2,其中TM为过渡金属元素Fe、Co、Ni、Mn,其浓度0≤x≤0.20。按铜、铬和过渡金属的摩尔比为1∶(0.80~1)∶(0~0.20),称量乙酸铜、硝酸铬及过渡金属盐,将粉末加入到蒸馏水中并加入适量柠檬酸,在室温下进行搅拌至完全溶解,获得混合均匀的溶液;然后经过烘干、研磨、压片及热处理后制得CuCr1-xTMxO2稀磁半导体块体材料。本发明采用溶胶-凝胶法具有能耗低,技术简单等优点。而且溶液内的各组分充分混合,均匀程度可达分子水平,因此可以制备多组分均匀掺杂物,并能够制备一些传统固相法难以得到的产物。实验结果具备可重复性。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 cucro sub 基稀磁 半导体材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料,其特征在于分子结构式为CuCr1-xTMxO2,TM代表过渡金属Fe、Co、Ni、Mn,掺杂浓度0≤x≤0.20。
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