[发明专利]p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810156784.1 申请日: 2008-10-17
公开(公告)号: CN101488387A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 李达;方晓东;邓赞红;董伟伟;陶汝华 申请(专利权)人: 中国科学院安徽光学精密机械研究所
主分类号: H01F1/40 分类号: H01F1/40;H01F41/00;C04B35/12;C04B35/45;C04B35/622
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 代理人: 余成俊
地址: 230031安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料及其制备方法。制备了CuCrO2基稀磁半导体多晶块体,其具有分子结构式CuCr1-xTMxO2,其中TM为过渡金属元素Fe、Co、Ni、Mn,其浓度0≤x≤0.20。按铜、铬和过渡金属的摩尔比为1∶(0.80~1)∶(0~0.20),称量乙酸铜、硝酸铬及过渡金属盐,将粉末加入到蒸馏水中并加入适量柠檬酸,在室温下进行搅拌至完全溶解,获得混合均匀的溶液;然后经过烘干、研磨、压片及热处理后制得CuCr1-xTMxO2稀磁半导体块体材料。本发明采用溶胶-凝胶法具有能耗低,技术简单等优点。而且溶液内的各组分充分混合,均匀程度可达分子水平,因此可以制备多组分均匀掺杂物,并能够制备一些传统固相法难以得到的产物。实验结果具备可重复性。
搜索关键词: 掺杂 cucro sub 基稀磁 半导体材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、p型掺杂CuCrO2基稀磁半导体材料,其特征在于分子结构式为CuCr1-xTMxO2,TM代表过渡金属Fe、Co、Ni、Mn,掺杂浓度0≤x≤0.20。
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