[发明专利]光学薄膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200810160821.6 | 申请日： | 2008-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN101393295A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;宫崎胜旭 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/04;C08F22/20;C08J5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;孙秀武 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及光学薄膜及其制造方法。光学薄膜，其是使组合物成膜再拉伸形成的，所述组合物包含分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团的化合物。式(A)中，B1和B2分别独立地表示羟基、C1-6的烷基、C1-6的烷氧基或环氧丙氧基，X表示2价的烃基、硫醚基、磺酰基、醚键或单键，该烃基也可含-CO-O-，a1和a2分别独立地表示0～4的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.光学薄膜，其是使组合物成膜再拉伸形成的，所述组合物包含分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团的化合物：![]()
式(A)中，B1和B2分别独立地表示羟基、C1～6的烷基、C1～6的烷氧基或环氧丙氧基，X表示2价的烃基、硫醚基、磺酰基、醚键或单键，该烃基也可含-CO-O-，a1和a2分别独立地表示0～4的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社，未经住友化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810160821.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种彩色纱线
- 下一篇：滤色片用墨液、滤色片、图像显示装置及电子设备
