[发明专利]用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件无效
申请号: | 200810161408.1 | 申请日: | 2008-09-25 |
公开(公告)号: | CN101440476A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 成栋永;金和正 | 申请(专利权)人: | 三星移动显示器株式会社 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人: | 罗正云;王诚华 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件。在掩模组件中,清洗该掩模组件以后残留在单元掩模和框架之间的间隙中的清洗液可被最少化。掩模组件包括框架和多个单元掩模。框架包括围绕一开口的一对第一支撑部和一对第二支撑部。多个单元掩模具有至少一组图案开口,多个单元掩模被固定在第一支撑部上,同时多个单元掩模上施加有张紧力。第一支撑部包括第一表面和第二表面。多个单元掩模被固定在第一表面上,并且,第二表面从第一表面沿多个单元掩模的厚度方向具有相对第一表面的高度差。 | ||
搜索关键词: | 用于 平板 显示器 薄膜 沉积 模组 | ||
【主权项】:
1、一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件,所述掩模组件包括:包括一对第一支撑部和一对第二支撑部的框架,其中所述两对支撑部被彼此连接,以使连接后的所述两对支撑部的内周界限定一开口;以及具有至少一组图案开口的多个单元掩模,其中所述多个单元掩模被固定至所述第一支撑部,同时所述多个单元掩模上施加有张紧力,所述多个单元掩模具有长度和厚度,其中,所述第一支撑部包括:连接至所述多个单元掩模的一部分的第一子区域,其中当从所述多个单元掩模的厚度方向观察时,所述第一子区域与所述多个单元掩模的所述一部分重叠,并且,所述第一子区域具有沿所述厚度方向测量的第一高度,以及沿所述多个单元掩模的长度方向从所述第一子区域延伸的第二子区域,其中当从所述厚度方向观察时,所述第二子区域未被连接至所述多个单元掩模,并与所述多个单元掩模不重叠,并且,所述第二子区域具有与所述第一高度不同的第二高度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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