[发明专利]一种用于减轻KTP晶体灰迹效应的装置及方法无效
| 申请号： | 200810163439.0 | 申请日： | 2008-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101431214A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 刘崇;葛剑虹;陈军 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H01S3/109 | 分类号： | H01S3/109 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 周 烽 |
| 地址： | 310027浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明一种用于减轻KTP晶体灰迹效应的装置及方法，该装置主要由在同一光轴上依次放置的第一透镜、第二透镜和KTP晶体组成，本发明可以避免晶体中产生灰迹效应，从而获得较高的倍频效率和好的绿光光束质量。装置简单，没有任何特殊的光学元件，使用普通的商用透镜即可实现。方法操作简单，只需要由远及近地连续调节KTP晶体和会聚系统之间的距离，即可以获得最佳的结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 减轻 ktp 晶体 效应 装置 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于减轻KTP晶体灰迹效应的装置，其特征在于，它主要由在同一光轴上依次放置的第一透镜、第二透镜和KTP晶体组成。其中，所述第一透镜和第二透镜组成望远镜系统，第一透镜和第二透镜的焦距分别为f1＝30～500mm、f2＝15～500mm。第一透镜1和第二透镜2之间的距离为d1＝f1+f2＝45～1000mm。
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