[发明专利]蚀刻液无效
| 申请号： | 200810163836.8 | 申请日： | 2008-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101445932A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 沈慕禹 | 申请（专利权）人： | 绍兴华立电子有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16 |
| 代理公司： | 绍兴市越兴专利事务所 | 代理人： | 蒋卫东 |
| 地址： | 312000浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液，属于蚀刻工艺技术领域，包括蚀刻母液、蚀刻子液，所述蚀刻母液由以下重量百分比的组分配制而成，三氯化铁40-60％，氯化铜2-4％，盐酸2-8％，余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20～30％，氯化铵10～15％，氯化铜2～4％，余量为水。本发明蚀刻液，蚀刻速度快，蚀刻效率及精度高，并降低了侧蚀影响。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【主权项】：
1、一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液，其特征在于：所述蚀刻母液由以下重量百分比的组分配制而成，三氯化铁40-60％，氯化铜2-4％，盐酸2-8％，余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20～30％，氯化铵10～15％，氯化铜2～4％，余量为水。
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