[发明专利]用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置

摘要

本发明公开了一种用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置。浸没液体供给及回收控制装置是在投影透镜组和待曝光衬底之间设置的装置，由注液盖、注液盘、流动控制环和挡圈组成。采用外部注液和内部回收，液体在外围通过定量及高速注入方式进入缝隙流场，通过协调控制作用在内部回收腔的负压，实现整个流场的平衡稳定。采用由外向内快速注液方式，不仅有效的抵消了液体向外泄漏的内在动力，减少了采用气体密封装置导致的边界气泡的渗入；同时加快了流场更新速度，有利于及时带走曝光过程中产生的污染物。

主权项

1. 一种用于光刻机的浸没液体供给及回收控制装置，是在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的液体供给及回收控制装置(2)；其特征在于：所述的液体供给及回收控制装置(2)包括注液盖(2A)、注液盘(2B)、流动控制环(2C)和挡圈(2D)；其中：1)注液盖(2A)：由中心向外开有偏置的回收腔对外连接通道(6B)、两个对称分布的注液腔对外连接通道(6A)；2)注液盘(2B)：由中心向外开偏置的物镜孔(4D)、回收腔(4C)和沿圆周方向均匀排列成环形的四个注液腔(4A)，四个注液腔(4A)向上与注液腔对外连接通道(6A)相通；回收腔(4C)向上与回收腔对外连接通道(6B)相通；注液孔阵列(4B)沿注液腔(4A)所在的圆周方向垂直向上排列；3)流动控制环(2C)：在环状圆周面上开有柱状斜流通槽阵列(5)，向上分别与注液孔阵列(4B)相通；4)挡圈(2D)：环状结构，内径和外径与流动控制环(2C)相同。所述的注液盘(2B)、流动控制环(2C)、挡圈(2D)，三部分构件之间的为平面结合。