[发明专利]光学薄膜的形成方法以及具有该薄膜的光学元件无效
| 申请号： | 200810167308.X | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101424749A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 山田和广;中山宽之;铃木峰太;盐川孝绅;佐藤幸治 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社;晶涂株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/04;C01B33/00 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程 伟 |
| 地址： | 日本东京都新*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光学薄膜的形成方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 形成 方法 以及 具有 薄膜 光学 元件 | ||
【主权项】：
1、一种形成光学薄膜的方法，该方法包括如下步骤：在光学构件的表面上形成主要由无机金属氧化物组成的精细结构层，然后通过液相沉积法形成无机硬层。
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