[发明专利]光波导路径的制造方法无效
| 申请号： | 200810168679.X | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101369036A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | S·R·卡安 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/138 | 分类号： | G02B6/138;G02B6/13 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴丽丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种对准标记的目测或者光学检测容易的光波导路径的制造方法。在衬底(1)上制造光波导路径时，在衬底上同时用同一材料形成下包层(2)和对准标记(A)，其后，在衬底上形成核(3)形成用的感光性树脂层(3a)以便覆盖其金属薄膜(B)，把可通过该感光性树脂层(3a)检测到的金属薄膜(B)作为目标，对核(3)形成用的曝光掩模(M2)进行定位。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 路径 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.光波导路径的制造方法，其特征在于包括：在衬底上使用同一材料形成下包层和对准标记的步骤；在上述对准标记上形成金属薄膜的步骤；形成具有透光性的第一感光性树脂层以便覆盖上述下包层以及上述金属薄膜的步骤；把在上述对准标记上形成的金属薄膜作为目标定位曝光掩模的步骤；和通过该曝光掩模，选择性地曝光上述第一感光性树脂层中下包层上的规定部分，通过上述第一感光性树脂层的曝光部分形成核的步骤。
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