[发明专利]半导体存储器件及其制造方法无效
申请号: | 200810168980.0 | 申请日: | 2008-10-06 |
公开(公告)号: | CN101404287A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 安彦仁 | 申请(专利权)人: | 恩益禧电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/11 | 分类号: | H01L27/11;H01L23/522;H01L21/8244;H01L21/768;H01L21/266;G11C11/41;G11C11/413 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙志湧;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种半导体存储器件包括:存储电路(2)、存取控制电路(3)、地电压供应区域(15)以及多晶硅部(8)。存储电路(2)存储数据。存取控制电路(3)包括第一存取晶体管(3-1)和第二存取晶体管(3-2)并控制所述数据的读和写。地电压供应区域(15)向存储电路(2)和存取控制电路(3)供应地电压。多晶硅部(8)连接包括在第一存取晶体管(3-1)中的第一栅极电极和包括在第二存取晶体管(3-2)中的第二栅极电极,并且由第二导电类型的半导体构成。地电压供应区域(15)连接到供应地电压的地电压供应接触,并包括:由第二导电类型的半导体构成的第一部(22),以及由第一导电类型的半导体构成的第二部(5-1)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,包括存储电路,配置成存储数据;存取控制电路,配置成包括第一存取晶体管和第二存取晶体管,并且控制所述数据的读和写;地电压供应区域,配置成向所述存储电路和所述存取控制电路供应地电压;以及多晶硅部,配置成连接所述第一存取晶体管中包括的第一栅极电极和所述第二存取晶体管中包括的第二栅极电极,并且由第二导电类型的半导体构成,其中,所述地电压供应区域连接到用于供应所述地电压的地电压供应接触,并包括:第一部,配置成由所述第二导电类型的半导体构成,以及第二部,配置成由第一导电类型的半导体构成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的