[发明专利]全息图记录介质的间隙层用膜及全息图记录介质无效
| 申请号： | 200810169424.5 | 申请日： | 2008-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101414120A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 常守秀幸 | 申请（专利权）人： | 帝人化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03H1/04;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;吴小瑛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种作为全息图记录介质的间隙层具有优选的物理性质及光学特性的膜。即，本发明提供一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由熔融挤出聚碳酸酯树脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度为10～150μm；(2)厚度不匀为±2μm以下；(3)在140℃下进行热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下；(4)全光线透过率为89％以上；(5)面内迟延为1～15nm；(6)厚度方向的迟延为100nm以下；(7)中心线平均表面粗糙度为两表面均为1～5nm。 | ||
| 搜索关键词： | 全息图 记录 介质 间隙 层用膜 | ||
【主权项】：
1. 一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由熔融挤出聚碳酸酯树脂而制成，其特征在于，(1)膜的厚度为10～150μm；(2)厚度不匀为±2μm以下；(3)在140℃下进行热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下；(4)全光线透过率为89％以上；(5)面内迟延为1～15nm；(6)厚度方向的迟延为100nm以下；及(7)中心线平均表面粗糙度为两表面均为1～5nm的范围。
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