[发明专利]阻隔性层叠体、阻隔性薄膜基板、器件以及阻隔性层叠体的制造方法无效
| 申请号： | 200810170332.9 | 申请日： | 2008-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101412300A | 公开（公告）日： | 2009-04-22 |
| 发明（设计）人： | 立石朋美 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;B32B27/18;B32B27/36;B32B9/04;C08F22/10;C08F2/50;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种阻隔性能提高的阻隔性层叠体。阻隔性层叠体的特征在于，具有至少1层有机层和至少1层无机层，上述有机层是通过对含有聚合性化合物和在1分子中具有2个以上有聚合引发能力的部位的光聚合引发剂的组合物进行光照射使其固化而形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 阻隔 层叠 薄膜 器件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种阻隔性层叠体，其特征在于，其具有至少1层有机层和至少1层无机层，所述有机层是通过对含有聚合性化合物和在1分子中具有2个以上有聚合引发能力的部位的光聚合引发剂的组合物进行光照射使其固化而形成的。
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