[发明专利]晶片的分割方法有效
申请号: | 200810170884.X | 申请日: | 2008-10-23 |
公开(公告)号: | CN101419936A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 梶山启一;增田隆俊;渡边真也 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;B28D5/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 黄剑锋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种即使使层叠在半导体基板背面的金属层厚度变薄、也能防止在电极框架上接合有金属层的器件的半导体基板上产生裂纹的晶片的分割方法。包括:基准线形成工序,将晶片的背面侧保持在切削装置的卡盘工作台上,沿着形成在晶片的表面的最外侧的分割道切断而形成基准线;V槽形成工序,将晶片的表面侧保持在卡盘工作台上,以基准线为基准将分割道定位在具有截面形状为V字形的切削刃的切削刀片的切削位置上,通过从晶片的背面侧沿着分割道切削而将该金属层切断,形成V字形的切削槽;加工应变除去工序,将残留在形成于半导体基板上的V字形的切削槽的表面的加工应变除去;切断工序,将晶片沿着分割道将切削槽的底部与半导体基板的表面间切断。 | ||
搜索关键词: | 晶片 分割 方法 | ||
【主权项】:
1、一种晶片的分割方法,是将晶片沿着第1分割道及第2分割道分割的晶片的分割方法,上述晶片在通过于半导体基板的表面平行延伸的多个上述第1分割道和沿与该多个第1分割道正交的方向延伸的多个上述第2分割道划分的区域中形成器件、在该半导体基板的背面层叠有金属层;其特征在于,该方法包括:基准线形成工序,将晶片的背面侧保持在切削装置的卡盘工作台上,沿着形成在晶片的表面的最外侧的第1分割道切断而形成第1基准线,并且沿着形成在晶片的表面的最外侧的第2分割道切断而形成第2基准线;V槽形成工序,将晶片的表面侧保持在切削装置的卡盘工作台上,以该第1基准线及该第2基准线为基准,将该第1分割道及该第2分割道定位在具有截面形状为V字形的切削刃的切削刀片的切削位置上,通过从晶片的背面侧沿着该第1分割道及该第2分割道切削而将该金属层切断,并且在该半导体基板的背面沿着该第1分割道及该第2分割道形成V字形的切削槽;加工应变除去工序,将被实施该V槽形成工序后残留在形成于该半导体基板上的V字形的切削槽的表面的加工应变除去;以及切断工序,将实施了该加工应变除去工序的晶片通过沿着该第1分割道及该第2分割道将V字形的切削槽的底部与该半导体基板的表面间切断,由此将晶片分割为各个器件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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