[发明专利]在浸没式平版印刷术中防止图案倒塌的等离子体表面处理

摘要

本发明包括一种当在浸没式显影之后干燥光刻胶掩模时减少光刻胶掩模倒塌的方法。由于特征尺寸持续缩小，用于冲洗光刻胶掩模的水的毛细作用力接近大于光刻胶对ARC的粘附力的点。当毛细作用力超过粘附力时，由于当水变干时水将相邻特征拉向彼此，掩模特征可能倒塌。通过在沉积光刻胶之前在ARC之上沉积密封氧化物层，粘附力可超过毛细作用力并且光刻胶掩模的特征可不会倒塌。

主权项

1. 一种在光刻胶掩模干燥期间减少光刻胶掩模倒塌的方法，其包括：在布置在基板之上的抗反射涂层上沉积密封氧化物层；在该密封氧化物层上沉积粘附促进剂；在该密封氧化物层之上沉积光刻胶层；图案化曝光该光刻胶；浸没式显影该光刻胶，以便产生光刻胶掩模；以及干燥该光刻胶掩模。