[发明专利]微粒测量方法、用于测量的基板、以及测量装置有效

专利信息
申请号: 200810173297.6 申请日: 2008-10-31
公开(公告)号: CN101424612A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 古木基裕;今西慎吾;筱田昌孝;铃木明俊;三宅和司 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G01N15/00 分类号: G01N15/00;G01N21/00;G01N33/483
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括:用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域;检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化;以及控制光对样品流体通道的发射时间。
搜索关键词: 微粒 测量方法 用于 测量 以及 装置
【主权项】:
1. 一种微粒测量方法,通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量,所述方法包括以下步骤:用所述光顺序照射与所述样品流体通道一起设置的至少两个或更多个参考区域;检测由所述参考区域引起的在所述光中发生的光学特性的变化;以及控制所述光对所述样品流体通道的发射时间。
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