[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂有效
| 申请号： | 200810173347.0 | 申请日： | 2008-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101470349A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱 丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子)。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 新型 化合物 以及 产酸剂 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1—1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，![]()
式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键；A+是有机阳离子。
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