[发明专利]曝光装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200810173391.1 | 申请日： | 2004-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101408734A | 公开（公告）日： | 2009-04-15 |
| 发明（设计）人： | 時田俊伸 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，具有把标线片的图案投影到衬底上的投影光学系统，并经由填充在所述投影光学系统的配置在最靠近所述衬底一侧的光学元件和所述衬底之间的液体而把所述衬底曝光，其特征在于包括：用来自光源的光照明所述标线片的照明光学系统；以及通过调整所述光学元件的温度，调整所述液体的温度的温度调整装置。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，经由液体而把衬底曝光，其特征在于包括：用来自光源的光照明标线片的照明光学系统；把所述标线片的图案投影到所述衬底的投影光学系统；保持所述衬底的保持构件；以及向所述保持构件所具有的流路提供调整了温度的流体的温度调整装置，其中，该曝光装置经由在仅所述衬底表面的局部和所述投影光学系统的最终透镜之间充满的液体而把所述衬底曝光。
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