[发明专利]栅极绝缘双接面晶体管静电放电防护元件有效

专利信息
申请号: 200810174775.5 申请日: 2008-11-03
公开(公告)号: CN101728384A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 周业宁;杜尚晖;张睿钧;吴振玮 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L23/60
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 任默闻
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种栅极绝缘双接面晶体管静电放电防护元件,所述元件包括一半导体基底,一图案化的隔离区设置于该半导体基底上,定义一第一主动区及一第二主动区。一高压N-型阱位于该半导体基底的该第一主动区中。一P-型体掺杂区于该半导体基底的该第二主动区中,其中该高压N-型阱和该P-型体掺杂区相隔一特定距离,露出该半导体基底。一P-型浓掺杂漏极区设置于该高压N-型阱中。一对相邻的一P-型浓扩散区和一N-型浓掺杂源极区设置于该P-型体掺杂区中。一栅极结构于该半导体基底上,其一端与该N-型浓掺杂源极区相接,其另一端延伸至该图案化的隔离区上。
搜索关键词: 栅极 绝缘 双接面 晶体管 静电 放电 防护 元件
【主权项】:
一种栅极绝缘双接面晶体管静电放电防护元件,其特征在于,所述的栅极绝缘双接面晶体管静电放电防护元件包括:一半导体基底;一图案化的隔离区设置于所述半导体基底上,定义一第一主动区及一第二主动区;一高压N-型阱于所述半导体基底的所述第一主动区中;一P-型体掺杂区于所述半导体基底的所述第二主动区中,其中所述高压N-型阱和所述P-型体掺杂区相隔一特定距离,露出所述半导体基底;一P-型浓掺杂漏极区设置于所述高压N-型阱中;一对相邻的一N-型和一P-型浓掺杂源极区设置于所述P-型体掺杂区中;以及一栅极结构于所述半导体基底上,其一端与所述N-型浓掺杂源极区相接,其另一端延伸至所述图案化的隔离区上。
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