[发明专利]光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法有效
| 申请号： | 200810174803.3 | 申请日： | 2008-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN101424888A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 洪瑄英;朴弘植;郑锺铉;金俸均;李智鲜;李炳珍;金柄郁;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 剥离 组合 方法 以及 显示装置 制法 | ||
【主权项】：
1. 一种光致抗蚀剂剥离用组合物，该组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。
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