[发明专利]一种涂层及其制造方法无效
| 申请号： | 200810175014.1 | 申请日： | 2008-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN101724812A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 殷志强;高元坤 | 申请（专利权）人： | 山东力诺新材料有限公司;殷志强 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24;C23C14/35;F24J2/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 殷骏 |
| 地址： | 250103 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种涂层，其可以用作为光学减反层，例如太阳选择性吸收涂层膜系的减反层。所述涂层是硅基合金的氮氧化物SiMNO薄膜材料，其中M优选为铝、锡、铟、钛、锆等合金化元素的一种或多种。本发明还涉及采用磁控溅射技术，以硅基合金靶在氩气、氮气和氧气存在中制备太阳选择性吸收涂层膜系中的减反层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂层 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
涂层，其特征在于，所述涂层是硅基合金的氮氧化物SiMNO薄膜材料，其中M为一种或多种以硅基合金总重量计至多为20重量％的合金化元素，所述合金化元素为铝、锡、铟、钛、锆等金属的一种或多种，优选为SiAlNO、SiSnNO、SiTiNO金属-介质复合薄膜涂层材料。
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