[发明专利]曝光设备和器件制造法有效
| 申请号： | 200810175137.5 | 申请日： | 2003-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN101424883A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 蛭川茂;马入伸贵;田中一政 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 张建涛;车 文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及曝光设备和器件制造法。利用供应机构(72)经透镜(42)一侧的供应喷嘴(36)把液体供应到透镜(42)和晶片(W)之间的空间，利用回收机构(74)经透镜(42)另一侧的回收管(52)回收液体。当同时执行液体的供应和回收时，预定量的液体就保持(随时处于交换状态)在透镜(42)和台上晶片(W)之间。因此，当在这种状态下执行曝光(图案转印到基片上)时，就应用了浸液方法，并且以很高的精度把图案转印到基片上。另外，如果液体从周壁(32g)下沿下面漏出，辅助回收机构(76)就经狭缝(32h3或32h4)回收不能回收的液体。并且通过这种操作，就不会有残留液体留在基片上。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 器件 制造 | ||
【主权项】：
1. 一种曝光设备，它用能量束照射图案并且在把液体局部保持在投影光学系统的像平面一侧的同时经所述投影光学系统和所述液体把所述图案转印到基片上，所述曝光设备包括：一个基片台，基片台上安装着所述基片，所述基片台在保持所述基片的二维平面内移动，其中所述基片台具有一个平坦部分，所述平坦部分在所述基片台上保持的所述基片周边大致与所述基片的表面平齐。
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