[发明专利]超薄纳米离子液体润滑膜的制备方法无效
| 申请号： | 200810175376.0 | 申请日： | 2008-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101735883A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 白明武;朱敏;赵文杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C10M177/00 | 分类号： | C10M177/00 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 方晓佳 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超薄纳米离子液体润滑膜的制备方法。润滑膜用浸涂法制备，薄膜总厚度为2～5nm，可望应用于微/纳机电系统、磁记录系统等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄 纳米 离子 液体 润滑 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种超薄纳米离子液体润滑膜的制备方法，其特征在于该方法包括以下步骤：a基底材料的预处理将单晶硅片依次用二次蒸馏水、丙酮超声清洗，然后用干燥氮气吹干，最后置于紫外光下照射1～6小时得到表面活化的单晶硅片；b离子液体薄膜的制备将表面活化的单晶硅片浸渍在离子液体的丙酮溶液中，控制浸渍时间2～10分钟，提拉速度2～8mm·s-1得到涂有离子液体薄膜的单晶硅片；其中离子液体选自甲基丁基咪唑四氟硼酸盐或甲基丁基咪唑六氟磷酸盐；c热处理将涂有离子液体薄膜的单晶硅片在90℃～120℃下处理1～3小时，即可得到厚度为2～5nm的离子液体薄膜。
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