[发明专利]形成含触媒层的电极的方法无效
| 申请号： | 200810176036.X | 申请日： | 2008-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101740226A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 卫子健;郑海鹏;冯宪平;蓝若琳;彭超;许雯琪;张雅慧;陈文祥 | 申请（专利权）人： | 健鼎（无锡）电子有限公司 |
| 主分类号： | H01G9/04 | 分类号： | H01G9/04;H01G9/20;H01M14/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟;尹丽云 |
| 地址： | 214101 中国江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成含触媒层的电极的方法，包括蚀刻基板表面、接着将基板浸泡至含有界面活性材料的溶液中而在基板表面上形成界面活性层、以及将基板浸泡至含有由高分子包覆的贵金属的第二溶液中，藉以在界面活性层上形成贵金属触媒层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 触媒 电极 方法 | ||
【主权项】：
一种形成含触媒层的电极的方法，该方法包括以下步骤：提供一个基板，该基板的一个表面上具有一导电层；蚀刻该基板的该表面；在蚀刻该基板的该表面后，将该基板浸泡至含有一种界面活性材料的第一溶液中，藉以于该导电层上形成一层界面活性层；将该基板浸泡至第二溶液中，藉以于该界面活性层上形成一层贵金属触媒层，其中所述的第二溶液包含分散于该第二溶液的若干个由一个高分子包覆的贵金属。
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