[发明专利]制造图像传感器的方法

摘要

本发明公开了制造图像传感器的方法，该方法包括以下步骤：在其中形成有光电二极管的衬底上方形成层间介电层；在该层间介电层上方形成光致抗蚀剂膜；从多个不同的角度多次曝光该光致抗蚀剂膜；以及通过显影经曝光的该光致抗蚀剂膜以形成微透镜。其不包括回流工艺，而是包括从不同角度多次曝光光致抗蚀剂膜，然后，通过显影经曝光的光致抗蚀剂膜，形成一个或多个微透镜。根据本发明的方法可以简化形成微透镜的工艺，并且最小化微透镜的间隔而防止微透镜的桥接，以增加入射到光电二极管的光量，从而最佳化图像质量。

主权项

1. 一种方法，包括以下步骤：在其中形成有光电二极管的衬底上方形成层间介电层；然后在该层间介电层上方形成光致抗蚀剂膜；然后从多个不同的角度多次曝光该光致抗蚀剂膜；以及然后通过显影经曝光的该光致抗蚀剂膜以形成微透镜。