[发明专利]光学多层膜过滤器、光学多层膜过滤器的制造方法和电子机器装置有效
| 申请号： | 200810176318.X | 申请日： | 2008-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101435888A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 澁谷宗裕 | 申请（专利权）人： | 爱普生拓优科梦株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B1/10;C23C14/10;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;赵冬梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光学多层膜过滤器及其制造方法，该光学多层膜过滤器能降低灰尘的附着且能容易地除去附着的灰尘。光学多层膜过滤器10具有由形成于玻璃基板1上的两个以上的层构成的无机薄膜2。无机薄膜2中，在玻璃基板的表面依次交替层积TiO2层和SiO2层，最表层由SiO2层(2L30)构成，在无机薄膜2的最表层的表面形成有含氟有机硅化合物膜5。并且，构成最表层的SiO2层的密度为1.9～2.1g/cm3，进而无机薄膜2的最表层的SiO2层设为第1层时，在第1层SiO2层的下层的第2层(2H30)和第4层(2H29)选择性地形成密度为4.1～4.8g/cm3的TiO2层，在第3层(2L29)选择性地形成密度为1.9～2.1g/cm3的SiO2层。这些SiO2层和TiO2层使用真空蒸镀法成膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 多层 过滤器 制造 方法 电子 机器 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光学多层膜过滤器，其为在基板上具有由两个以上的层构成的无机薄膜的光学多层膜过滤器，其特征在于，上述无机薄膜由低密度形成部和高密度形成部构成，在上述无机薄膜的表面上形成有含氟有机硅化合物膜，上述低密度形成部中，上述无机薄膜的最表层或包括该最表层在内的两个以上的层由低密度的二氧化钛层和/或低密度的二氧化硅层形成，上述高密度形成部是在上述低密度形成部和上述基板之间层积相对于上述低密度的二氧化硅层为高密度的二氧化硅层和相对于上述低密度的二氧化钛层为高密度的二氧化钛层而形成的，上述低密度形成部的总膜厚为280nm以内。
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